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論文

Selective multiple-photon dissociation of chloroform-d

横山 淳; 鈴木 和弥; 藤沢 銀治; 石川 二郎; 岩崎 又衛

Journal of Nuclear Science and Technology, 18(9), p.737 - 738, 1981/00

CHCl$$_{3}$$およびCDCl$$_{3}$$等モル混合系にCDCl$$_{3}$$$$upsilon$$$$_{4}$$バンドの波長に相当するTEACO$$_{2}$$レーザーからのレーザー光(10.83$$mu$$mおよび10.91$$mu$$m)照射を行い、CDCl$$_{3}$$の選択的多光子解離を確認した。分解生成物中の分離係数は、10.91$$mu$$m光照射の場合、全圧4$$times$$10$$^{2}$$Paで47以上となり、全圧が増加するに従って、分離係数が低下した。また全圧が同じ場合には、10.83$$mu$$m光照射の場合に比べて光学的選択性(CDCl$$_{3}$$とCHCl$$_{3}$$のモル吸光係数の比)の大きい10.91$$mu$$m光照射の場合に、より大きい分離係数の値を得た。

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